某半导体材料集成电路芯片制做厂在晶圆加工生产过程中 中，采用硅烷开始硅概念造成，排放洗條塔呈现高溶度含硅污污水 。污污水 具备着pH振幅大（2-11）、硅含量的高的优势特点，过去治疗最简单的方法易造成硅垢堵赛间题。 污废水 材质及来源于 废水处理最主要的部分为： 溶水性硅酸盐 ：SiO₂含量达1000-1500mg/L 浓盐酸/氢氧化反应钠 ：洗條塔酸碱性洗條液农药残留 粒子硅 ：奈米级SiO₂固体 痕量砷 ：原材料溶物带到 外理加工过程流量 去创新用于"二级采和+膜滤水+化掉析出"工艺设计： 第一与 ：用CaO转换pH至4-5，添加硅酸钙乳浊液，硅清除率60%。 2级中合 ：加Na₂CO₃将pH改善至9，更进一步一个脚印沉淀物中剩下硅，串联用镁剂除砷。 反渗透膜设计 ：0.02μm瓷砖膜过虑纳米技术级硅颗粒肥料，通量稳定性在80LMH。 MVR减压蒸馏器 ：浓缩提炼高盐污水，晶体出Na₂SO₄副厂品，水工业废水处理率超90%。 后面视觉效果 总硅从1500mg/L低于5mg/L接下来 砷硫含量从0.8mg/L降低0.01mg/L 模式无结渣行驶多于2年 每月回收利用氢氧化钾钠单晶体约800吨