该项目题材 济南某半导体技术厂种植历程中并且出现高硅废气（SiO₂ 500-800mg/L）和含氟废气（F⁻ 200-300mg/L）。哪几种废气混合物而后容易达成氟硅酸电解质溶液，傳統化学滤渣法易于安全稳定达到标。的项目标要求数据同步避开硅和氟（废气排放标：SiO₂≤30mg/L，F⁻≤10mg/L）。 废水处理方法化学物质及由来 基本成份 ：硅酸氢钠（NaHSiO₃）、氟化铵（NH₄F）、异丙醇 来源地 ：晶圆刻蚀电镀生产废水、CMP研磨设配电镀生产废水、设配擦洗水 整理技艺注意事项 协同管理发展关键时期 ： 多级症状池 ： 第二级添加Ca(OH)₂合成CaF₂和CaSiO₃积淀； 其二级污泥脱水PAC（聚合反应氯化铝）增强水解酸化池。 固液剥离时候 ： 反渗透膜平台 ：选取0.02μm直径膜控件挪作他用固体硅和微细析出物。 深度1脱氟关键时期 ： 灵活性脱色铝气体吸附塔 ：的残留物氟铝离子粘附去掉。 结果成果 出水出水SiO₂≤25mg/L，F⁻≤8mg/L，远相较于国家的标准化。 反渗透装置装置通量稳定性高在15LMH，有机化学拆洗周期长延伸至60天。 活性污泥经压滤后含水量率＜65%，可按似的固体废弃物救治。