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电子半导体废水怎么处理|电子半导体废水如何处理

该晶圆加工厂厂是在华中各地,常见工作8寸大半导体技术晶圆,平均工业废水减排量约800吨。由工作过程中 中用到大批量氢氧化钠采取晶圆蚀刻,致使工业废池里氟化物密度到达200-300mg/L,远超我国减排标准(10mg/L低于)。 工业废水化学成分及來源 污水通常出于五个缓解: 晶圆蚀刻道工序 :含高盐浓度氟化物(HF)、硝酸银及一定量巨资属 化学上的机拋光(CMP)废水处理方法 :含奈米级硅小粒、可挥发络合剂 装备进行维护清洁焦化废水 :含异丙醇、氧化还原电位等有机会物 治理加工制作工艺 的流程 应用"化学上放置+水泥混凝土放置+的深度脱水"3级除理模式: 四级治理 :添加氯化钙和氢防氧化钙,出现氟化钙奠定,氟化物出掉率达85% 五级治疗 :添加图片PAC(缔合氯化铝)和PAM(聚乙烯酰胺),清理固体态环境破坏物 三阶段加工处理 :经由多材质过滤水器和活性氧炭气体吸附,出水出水氟化物氧化还原电位可靠在8mg/L有以下 根本设施属于:pH自然调整软件系统、斜管析出池、板框带式压滤机(厌氧颗粒污泥过滤)。 以后视觉效果 楼盘正常运行五年期监控数据源表明: 氟化物峰值氧化还原电位:7.2mg/L(少于欧洲国家规范) COD避开率:92% 飞灰含水量率:≤65% 年收售氟化钙副软件约150吨,建立材料化应用

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