半导体芯片加工废水处理案例|半导体芯片加工废水处理方法
大型项目背静
该工业园聚众了十余家半导体器件重要性工厂主的,来设计日补救力5000吨,需用补救出于与众不同工厂主的的比调焦化废液。是因为各工厂主的出产制作工艺异同大,焦化废液营养成分简化机动,补救难度很大较高。
污水化学物质及起源
废污水主要是还涉及到3个类:高被氧化还原电位生物碳化学废污水(光刻胶、定影液等)、含氟废污水(刻蚀流程)和耐酸碱废污水(清洁流程)。唯一性基本成分还涉及到异丙醇、四甲基氢被氧化铵等难光降解生物碳化学物,还有氟化物、氯离子等高分子水大气污染物。废污水COD冲击大(500-3000mg/L),氟化物被氧化还原电位100-500mg/L,氯离子50-150mg/L。
治理加工程序
用于"分为整理+分质解决+集合宽度解决"的全新模式切换:
工业企业内层各类预治疗:含氟污水随便分类整理并预治疗
工业区管道等级分类卸料系统
综上设定池动态平衡水环境
多级沥青混凝土奠定除掉浮窗物和橡胶胶体部分
有效微生物发生流化床反应器(HBR)净化处理有机肥料危害物
老化崔化硫化吸附难被分解转换成有机会物
反渗透设备法系统软件来进行脱盐处里
紫外光线线紫外光线消毒为了确保出水量健康安全
非常设制了上线污染监测机系统化和全自动投加药剂机系统化,面对水质监测变化。
以后成果
控制系统正常运行六年来,处里成果相对稳定可信。喷水COD<30mg/L,氟化物<3mg/L,氧化还原电位<5mg/L,总氮<15mg/L,以达到河流Ⅳ类标准单位,方面循环于经济区造林及闭式闭式冷却塔塔补湿,循环率超过了30%。每人每年少最新水适用约100万吨,为经济区机构控制成本电费千余上万元。