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半导体生产废水处理案例|半导体生产废水处理方法

新项目背静 该光电器件研制开发区隶属于西北的地区,总加盟不超200多亿,主耍生產12屏幕尺寸晶圆和为先进装封服务。开发区日产生废的水量约5000吨,一般包括四种技术化工化工废水,正确办理難度大。品牌想要化工化工废水正确办理后高于《电子器件工农业水严重大气污染物产生标准规范》(GB 39731-2020)很大产生标准值,部门中水回用率不低过60%。 废渣化学物质及来源地 含氟废水处理:主要是位于晶圆蚀刻、刷洗生产工序,氟阴离子溶度高达mg200-500mg/L,pH值价格波动大 生产污水:光刻、定影、去胶等生产工序制造,COD含量300-800mg/L,所含异丙醇、甲苯等生产液体 含铜焦化废水:电镀层、化学式机械设备打磨(CMP)制作工艺生成,铜铁离子浓度值50-150mg/L 酸碱平衡电镀废水:机器设备除污、有机废气洗滌等的环节呈现,pH值在2-12期间下跌 机磨生产废水:CMP制作工艺诞生,含带纳米技术级二被氧化硅颗粒肥料 处理方法操作流程 选用"区分自身+分质外理+程度油烟净化器"的结构工艺设计: 含氟生活污水治疗线 : 多级药剂学沉定:先添加氯化钙自动调节pH至6-7,多加入PAC和PAM二沉池沉定 化学活化脱色铝离心分离:以保证氟铝离子溶度减至5mg/L下述 生活污水经板框压滤后申请专业的处里 生产焦化废水治疗线 : 微电解设备法预操作:铁碳微电解设备法挥发大碳原子无机物 UASB水解酸化池化学物反应器:HRT=24h,COD消除率>60% MBR膜菌物生理植物细胞培养:采取PVDF空芯钎维膜,通量15LMH 含铜废液解决线 : 耐腐蚀析出:加药NaOH调节器pH至9-10,形成了Cu(OH)2析出 铝铝离子交換:两极树脂胶交換以保证铜铝铝离子<0.3mg/L 钛电极收售:个部分污水经钛电极收售复合铜 综和治理设备 : 控制池:教育均衡发展水源发电量,设水解酸化混和 混疑石雕文化沉淀:加药软型二沉池剂我们要除溶液类物质 臭氧老化离子液体钝化:吸附难吸附巧妙物 反融合程序:脱盐率>98%,产水造纸废水处理于生产加工线 工业废水解决设备 : 厌氧颗粒污泥溶缩池:固态溶度从1%提高了至3% 离心法脱水现象:放入PAM条理,泥饼含水分率<75% 高低温干化:方面生活污水干化至含水量率30%以内 终究功能 項目建起正常运作后,各个指标英文安全稳定不合格:氟化物<5mg/L、COD<30mg/L、铜阴阳离子<0.3mg/L、pH 6-9。中水回收利用自来水水硬度到GB/T 19923-2005工業用自来水规格,中水回收利用率65%,第一年节约用电生鲜水使用约130万吨。活性污泥制造量变少40%,危害有害垃圾处里投资成本削减35%。整体重新化程度上高,优酷云污染监测参数与绿色环保行政部门实时路况互联网。

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