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半导体晶圆划片废水处理案例|半导体晶圆划片废水处理方法

顶目背景图案 此内容靠近长四角地域某国家级别半导体行业房产垂钓区,单位核心制造8厘米和12厘米晶圆,曰产量符合2万片。渐渐产量升降,原本的的化工废水治理 模式已难以具备生态环保请求,需要在线升级进行改造。内容总注资约11000万元,的设计治理 工作能力为300吨/日,于2022年起建投产。 废水处理营养成分及源头 该企业晶圆划区工艺流程产生了的废水处理工艺主要是涵盖以內营养成分: 切开的时候中食用的磨研液留物,具体有效成分为二脱色硅粒状、外层几丁质酶剂和巧妙增添剂 晶圆表面上进行维护清洁行成的含氟废污水,氟阴离子浓硫酸浓度在80-120mg/L 大量血本属化合物如铜、镍等,的来来自于激光切交通工具偏磨 可挥发稀释剂留下,涉及异丙醇、甲苯等 pH值波动性很大,基本上在4-10中间 解决加工制作工艺 具体流程 造成化工废水性能,装修设计进行"有机化学预净化解决+生物化学净化解决+淬硬层净化解决"的三人组合加工过程: 设定池 :均匀水环境用水量,设制pH线监测方案和会自动投药操作系统 混凝土沉淀自己 :加药系统PAC和PAM,洗去悬浮按钮物和固体类物质 气浮单无 :选用溶气气浮方法进十步除掉狗狗细小颗料和个部分有机化学物 血生化治理 :使用MBR膜生物体化学物反应器,飞灰氧化还原电位稳定在8000-10000mg/L 角度办理 :灵活性碳吸咐+反进行渗透流程,保证出水量达到 活性污泥操作 :板框设备脱水情况,活性污泥含水分率降下来60%下类 外理视觉效果 控制系统相对稳定程序运行后,冒水水源齐全到达《电子器件实业水水挥发性有机物污染物出规范》(GB39731-2020)特别污染物出规定值请求: COD<30mg/L 氟铝离子<5mg/L 悬浮物物<10mg/L 血本属各个公式均压低标准值 大型项目年可缩减生态破坏物污染物量约COD 32吨、氟化物8.5吨,使用水率起到75%以下,为的企业增加电费拨出约110万元/年。

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