半导体含氟废水怎么处理方法|半导体含氟废水处理案例
工作底色
该的企业专业的工作半导体设备用高纯氟化氢和六氟化钨,生产废水氟溶液浓度高超且材料较为复杂。原先治理 技术实际效果不稳定性,氟化物排卸会时常超出标准。的项目投入资金2300万元项目建设专程治理 公用设施,设计构思治理 力500吨/天。
废渣因素及源于
废气排放关键发源生产加工产品难以清理和废气排放洗洁:
氟阳离子酸度:1500-3500mg/L
含氢氧化钾根亚铁离子:2000-5000mg/L
pH值:1-
含进样器钨、钼等合金材料无素
除理鑫霖环保设计步骤
采取高盐浓度共同点,使用"采和+多极沉淀自己+膜处里"新工艺:
生活污水划分类别整理池:划分类别划分类别整理各不相同有机废气浓度生活污水
中合体现池:分环节加药系统氢空气氧化的钠和氢空气氧化的钙,把握不可能pH至7.5-8.
二沉池反馈池:添加PAC和PAM增进凝固成果
斜管沉定池:高效率固液脱离
多媒介油烟净化器器:剔除不起眼粉末
反覆盖系统性:深度1脱盐和除氟
污泥干化处理精浓脱水怎么办烘干软件:离心式脱水怎么办烘干后污泥干化处理土石方工程专门处治
线上数据监测程序:实时视频监控录像氟阴离子溶度和pH值
结果的效果
加工系统性运动资料:
存水氟正离子均值有机废气浓度:2800mg/L
出水出水氟化合物氧化还原电位:3.2mg/L(大概)
氟避开率:99.9%不低于
水循环率:提升65%
设备自動化方面高,做到废气治理成本价大大减少30%,年回收利用氟化钙副软件约400吨。