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半导体封装废水怎么处理方法|半导体封装废水处理案例

业务图片背景 该工厂坐落在辽宁省昆山市,主要的去做中档半导体集成电路芯片集成电路芯片的芯片封装检验,日尾气直接排放废渣流量约200吨。伴随生产销售的过程 中食用多种类化学上的解毒剂,废渣成分表繁复,具有高质量浓度铜、镍等高价属各类环氧防锈漆树脂胶、光刻胶等生产感染物。工厂应有处里设施管理难以能够满足多种尾气直接排放细则,急缺发展升级改造。 废污水化学成分及來源 塑胶电镀废水处理方法 :起源于集成电路芯片引脚主轴电镀流程,富含铜、镍、锡等血本属铁离子,pH值动荡大。 有机会工业废水 :常见来自于二极管封装胶固有、光刻加工,有环氧防锈漆树脂胶、异丙醇、二甲苯等无机稀释剂。 酸碱性废水处理工艺 :产生了于晶圆的清洗和蚀刻步骤,包含氢硫化钠、硫酸钠、氢硫化钠等。 办理制作工艺标准流程 预净化处理第一阶段 酸碱平衡结合 :按照投加装置控制pH至6-9,以防之后净化处理仪器蚀化。 混凝土沉垫 :添加PAC(缩聚氯化铝)和PAM(聚丙稀酰胺),取除浮悬物和方面血本属。 价值体系正确处理步骤 高端氧化的 :通过Fenton化学药品(H₂O₂+Fe²⁺)可分解难吸附可挥发物,COD除去率达70%之上。 膜净化 :反渗透设备工作会更膜(UF)+反渗透设备工作会更(RO)搭配制作工艺,进一个步骤挤占天价属和溶解度性生物碳物。 深层次除理关键时期 阴阳离子交流 :特意采取铜、镍化合物,事关出水量巨资属成分最低0.5mg/L。 催化活性碳吸附物 :有所作为最后保驾护航,清理无残留少量物质物。 进而效果好 经清理后,水流水体超过《光电子工业品水影响物排放出原则》(GB 39731-2020):COD<50mg/L、铜<0.3mg/L、镍<0.1mg/L,循环率提高至60%,每季度省供水直接费用约80万的大写。

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